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A033499其他專用儀器儀表

擬購置1臺(tái)超高真空多腔體鍍膜系統(tǒng)，提供超高真空的多個(gè)腔體，專門針對(duì)制備器件所需的超導(dǎo)薄膜的蒸鍍和濺射。主要指標(biāo)包括含3個(gè)腔室，即進(jìn)樣室、電子束蒸發(fā)腔室和磁控濺射腔室，進(jìn)樣室真空度好于1e-8 Torr，兩個(gè)鍍膜腔室真空度好于1e-9 Torr，配備離子槍，進(jìn)樣室樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)且可加熱到600度以上，腔體可烘烤120度以上，鍍膜各含至少4個(gè)源。 本課題需要進(jìn)行大量的器件加工制備，幾種高質(zhì)量超導(dǎo)薄膜的蒸鍍是必須的。為此，需購置一臺(tái)3腔體的超高真空鍍膜系統(tǒng)，包含進(jìn)樣室、電子束蒸發(fā)腔室和磁控濺射腔室。進(jìn)樣室能夠保證快速進(jìn)樣，且能夠使得樣品在兩個(gè)鍍膜室之間的真空傳輸。進(jìn)樣室內(nèi)需配備離子槍，包含氬氣和氦氣，在鍍膜之前對(duì)樣品表面進(jìn)行預(yù)處理，除掉殘余的光刻膠、表面吸附臟氣等，獲得干凈平整的表面。磁控濺射腔室主要用于Pb、V等超導(dǎo)材料的濺射，它們的臨界超導(dǎo)溫度、臨界磁場相對(duì)較高，利于量子態(tài)的構(gòu)建。電子束蒸發(fā)腔室主要用于Al的超導(dǎo)薄膜，同時(shí)有Ti作為粘附層。為了達(dá)到更好的效果，樣品臺(tái)將配備液氮冷卻，低溫下的Al膜質(zhì)量更高。同時(shí)，為了保護(hù)磁控濺射后的Pb、V等超導(dǎo)薄膜，樣品可在真空中傳輸?shù)诫娮邮皇�，蒸發(fā)Au作為保護(hù)。